第436章 3D三栅极晶体管 (第2/2页)
　　
　　顾松笑道：“我的意思是，后面来探讨这件事，不妨也请高校的一些领导来。”
　　
　　齐学真若有所思，先放在了心上。
　　
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　　一顿午饭吃完，休息了一会，武湖国际会展中心又重新热闹了起来。
　　
　　其实从某种程度上来说，下午的这场发布会，才是很多人来到武湖更直接的原因。
　　
　　燧石科技的领先科技成果发布会！
　　
　　过去三年多时间里，燧石科技作为一家专注研发和专利经营的公司，旗下的燧石研究院已经在全球半导体和集成电路领域拥有了赫赫威名。
　　
　　而现在，不仅有在ISSCC上公布的DDR4、3D闪存新工艺、精简指令集和芯片微架构，更有不久前发布会宣布的22纳米制程工艺要发布！
　　
　　更何况，谁知道会不会有其他未公布的新成果？
　　
　　上午一个大家都不太抱希望的开幕仪式和主题演讲，都爆发出了这么多信息。
　　
　　下午的正戏能得了？
　　
　　不到两点半，会场里已经坐满了人。
　　
　　这一场发布会，顾松带着头盔进来的。
　　
　　真正厉害的人可以享受一点特殊的宽容？总之并没有人表露出好笑的表情。
　　
　　事实上，从顾松开始登场之后，人们就只关注大屏幕上冒出什么样的图像和文字来，从他嘴里又会说出什么话。
　　
　　对专利授权甚至转让存有意思的人，带着专家准备进行评估。
　　
　　暂时利益无关的人，也在关注有没有会影响自己行业和项目的科技突破
　　
　　负责同声传译的女孩子已经准备好了。
　　
　　顾松再次露出一个灿烂的笑容：“让大家久等了，这就开始。让我们先从很多人最关注的地方开始吧。22纳米制程工艺，以及EUV光刻机。”
　　
　　英特尔的高管猛的心神巨震。
　　
　　EUV光刻机？
　　
　　其他懂这个的，立刻张大了嘴巴。还真有未公布的新成果？
　　
　　什么情况？浸润式光刻机不是刚做出来不久吗？怎么就有极紫外光刻机了？
　　
　　ASML倒是一直在做，原来说04年推出的，现在肯定是集中精力改进浸润式光刻机去了，EUV光刻机没有新消息。
　　
　　顾松不等众人疑惑不解，就说道：“浸润式光刻，经过我们的一段实验和论证，它的有效极限，应该就是22纳米。所以，极紫外光刻的研发已经提上了日程，我们只取得了很小的进展。之所以在这里提出来，也是向各位有需要的伙伴发出邀请，一起攻克这个难题。”
　　
　　听到这话，凯文·卡尔心头一动，这是一个很好的信号。
　　
　　唯一只需要考虑的，就是老家伙们，愿不愿意与华国展开合作。
　　
　　英特尔的高管也长舒一口气。
　　
　　如果说燧石科技又拿出来22纳米制程工艺，又完成了可以突破到10纳米甚至7纳米制程的极紫外光刻机，那将极大地影响英特尔接下来至少10年到20年的战略走向。
　　
　　台上，顾松通过幻灯片呈现出了他最期待想看到的一个东西。
　　
　　“诸位，这就是22纳米制程工艺下的3D三栅极晶体管示意图。”
　　
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